Perspectives and advantages of the use of excimer laser annealing for MOS technology

Authors: Privitera V., Alippi P., Camalleri M., Cuscuna M., Fortunato G., La Magna A., Rosa G.L.A., Magri A., Mariucci L., Monakhov E., Salinas D., Simon F., Spinella C., Svensson B.G.
Years: 2006
Source Title: Nuovo Cimento della Societa Italiana di Fisica C
Doi: 10.1393/ncc/i2006-10006-2
Venue: CNR Nanotec @ Lecce