N-type doping of Ge by As implantation and excimer laser annealing

Authors: Milazzo R., Napolitani E., Impellizzeri G., Fisicaro G., Boninelli S., Cuscuna M., De Salvador D., Mastromatteo M., Italia M., La Magna A., Fortunato G., Priolo F., Privitera V., Carnera A.
Years: 2014
Source Title: Journal of Applied Physics
Doi: 10.1063/1.4863779
Venue: CNR Nanotec @ Lecce